上海波森环保科技有限公司是一家专门从事养殖废水零排放设备/沼液浓缩设备/膜浓缩分离设备/工业纯水设备等水处理设备厂家,为广大客户量身定作优质的水处理设备解决方案, 并提供完善的工程设计,设备制造,系统安装调试及技术咨询服务等,在废水零排放技术领域取得了突出成就。
上海芳泉环保科技有限公司专业经营水处理设备,超纯水设备、桶装纯净水设备、锅炉软化水设备、除铁锰水处理设备、水处理设备、玻璃镀膜EDI超纯水处理设备、大中小型纯净水厂设备、纯水机等 详情咨询:18638758068
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半导体超纯水设备;EDI超纯水设备;EDI超纯水系统
所属类别:EDI超纯水设备 
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     半导体超纯水设备;EDI超纯水设备;EDI超纯水系统

        半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多,按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体:镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外,还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。

  水质:出水水质>15MΩ.cm。

  用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

  新兴的光电材料生产、加工、清洗;液晶显示屏、离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

  我们公司专业生产反渗透+EDI超纯水设备,有多年的生产经验,做过各行业的水处理设备,水处理方面我们有丰富的经验。莱特莱德水处理公司产品具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等优势。欢迎咨询半导体超纯水设备、超纯水设备。



        半导体超纯水设备的制备工艺:

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)。

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)。

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)。

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)。


        半导体行业EDI超纯水设备的水质标准:

  半导体超纯水设备,超纯水设备,超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。


       EDI超纯水设备的应用领域:

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

高品质显像管、萤光粉生产。

汽车、家电表面抛光处理。

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